產(chǎn)品[
電子薄膜應(yīng)力分布測(cè)試儀 型號(hào)：HFGS-6341
]資料
產(chǎn)品名稱:
電子薄膜應(yīng)力分布測(cè)試儀 型號(hào)：HFGS-6341
產(chǎn)品型號(hào):
HFGS-6341
產(chǎn)品展商:
中慧
產(chǎn)品文檔:
*相關(guān)文檔
簡(jiǎn)單介紹
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
該產(chǎn)品主要應(yīng)用在微電子、光電子生產(chǎn)線上和科研、教學(xué)等領(lǐng)域Si、Ge、GaAs等半導(dǎo)體基片及電子薄膜應(yīng)力分布、光學(xué)零件面形和平整度面形、 基片曲率半徑測(cè)量測(cè)試。該儀器總測(cè)量點(diǎn)數(shù)多，能給出場(chǎng)面型分布結(jié)果，適合于微電子生產(chǎn)線上產(chǎn)量的快速檢驗(yàn)和微電子生產(chǎn)研究。
儀器基于干涉計(jì)量的場(chǎng)測(cè)試原理，可實(shí)時(shí)觀測(cè)面型的分布，迅速了解被測(cè)樣品的形貌及應(yīng)力集中位置，及時(shí)淘汰早期失效產(chǎn)品。
電子薄膜應(yīng)力分布測(cè)試儀 型號(hào)：HFGS-6341
的詳細(xì)介紹
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
該產(chǎn)品主要應(yīng)用在微電子、光電子生產(chǎn)線上和科研、教學(xué)等領(lǐng)域Si、Ge、GaAs等半導(dǎo)體基片及電子薄膜應(yīng)力分布、光學(xué)零件面形和平整度面形、 基片曲率半徑測(cè)量測(cè)試。該儀器總測(cè)量點(diǎn)數(shù)多，能給出場(chǎng)面型分布結(jié)果，適合于微電子生產(chǎn)線上產(chǎn)量的快速檢驗(yàn)和微電子生產(chǎn)研究。
儀器基于干涉計(jì)量的場(chǎng)測(cè)試原理，可實(shí)時(shí)觀測(cè)面型的分布，迅速了解被測(cè)樣品的形貌及應(yīng)力集中位置，及時(shí)淘汰早期失效產(chǎn)品。
產(chǎn)品特點(diǎn)
創(chuàng)的錯(cuò)位相移
計(jì)算機(jī)自動(dòng)條紋處理
測(cè)試過(guò)程自動(dòng)
的曲面補(bǔ)償測(cè)試原理
指標(biāo)
樣品尺寸：≤100mm (4英寸)
曲率范圍：|R|≥5米
測(cè)試精度：5%
單片測(cè)量時(shí)間：3分鐘/片
結(jié)果類型：面形、曲率半徑、應(yīng)力分布、公式表示、數(shù)據(jù)表格
圖形顯示功能：三維立體顯示、二維偽彩色顯示、單截面曲線顯示
電 源：AC 220V±10%, 50Hz±5%
功耗：100W
外型尺寸：(L×W×H) 285mm×680mm×450mm
重 量：36kg